方程式：
RX被還原的難易：RI(易)> RBr> RCl(難)
酸性還原劑：HI， Zn + HCl
注意干擾基團(tuán)，例如：NO2
中性還原劑，催化氫化：
特點(diǎn)：選擇性差
適用范圍：芳香鹵代烴、苯甲型、稀丙型鹵代烴、三級(jí)鹵代烴、RI
催化氫解：用催化氫化法使碳與雜原子（O、N、X）之間的鍵斷裂，稱為催化氫解。苯甲型（芐型）化合物特別容易發(fā)生催化氫解
堿性還原劑：
Ⅰ 硼氫化鈉（NaBH4）溫和還原劑
特點(diǎn)：還原能力差，選擇性好。
范圍：2oRX, 3oRX,醛、酮、酰鹵、酸酐。
注意：必須在堿性水溶液中進(jìn)行。
Ⅱ 氫化鋰鋁（LiAlH4）強(qiáng)還原劑
特點(diǎn)：還原能力強(qiáng)，選擇性差。
范圍：孤立C=C不被還原。3oRX消除為主。
CH3X > 1oRX> 2oRX
注意：必須在無(wú)水介質(zhì)中進(jìn)行。
還原機(jī)理：
Ⅲ Na的液氨溶液
1. Li + NH3(液)也能用于還原。
2. 若X在雙鍵碳上，還原時(shí)，雙鍵的構(gòu)型不變。
3. 反應(yīng)必須在低溫?zé)o水條件下進(jìn)行。
4. CoC、苯、萘、蒽等也能被還原。
本文摘自---《刑其毅二十三章課件》
