芐基和Cbz是常見的胺基保護基（氨基保護匯總），甲酸銨, Pd/C，MeOH, 回流條件下是一種非常常用的脫保護方法，此方法操作簡便，安全（不用氫氣），反應體系干凈，后處理簡便等優(yōu)點。反應脫保護后，通常會緊接著進行?；磻?，不管是用酰氯直接進行?；€是利用縮合劑和酸進行?；?，在LCMS上偶合會發(fā)現(xiàn)原料胺分子量（M）加28的峰。此M+28的副產物通常和產物極性相近，對后處理純化帶來了很多麻煩。
通過分析發(fā)現(xiàn)此副產物很可能就是上一步殘留的甲酸銨或甲酸導致的。脫保護后，如果后處理不仔細，水洗次數太少，會殘留少量的甲酸銨，引起下方圖示的副反應。但是有時經過反相柱層析純化后還是有此副產物生成，小編認為可能是由于脫保護時，甲酸銨加熱分解部分氨氣跑掉，多余的甲酸和產物胺形成了甲酸銨鹽，此甲酸銨鹽如果不用堿游離，勢必導致下方圖示的副反應。
脫保護后，過濾，濃縮，加入飽和碳酸氫鈉水溶液和有機溶劑振蕩，分液，有機相水洗幾遍后再進行進一步純化，或者直接用于下一步反應?？捎行П苊獯烁狈磻M行。
