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網(wǎng)站首頁(yè)/有機(jī)動(dòng)態(tài)/有機(jī)前沿/謝毅院士/武曉君/張曉東NSR:ZnIn2S4層的表面修飾實(shí)現(xiàn)能量傳遞介導(dǎo)的光催化
謝毅院士/武曉君/張曉東NSR:ZnIn2S4層的表面修飾實(shí)現(xiàn)能量傳遞介導(dǎo)的光催化
光催化(photocatalytic)好氧選擇性氧化反應(yīng)對(duì)于設(shè)計(jì)先進(jìn)的有機(jī)中間體至關(guān)重要,但轉(zhuǎn)化效率低。因此,激活O2以產(chǎn)生合適的活性氧物質(zhì),例如單線態(tài)氧(1O2)可顯著提高所需產(chǎn)物的產(chǎn)量。

基于此,中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)謝毅院士、武曉君教授和張曉東博士(共同通訊作者)等人報(bào)道了以ZnIn2S4納米片為模型系統(tǒng),構(gòu)建了表面修飾的理論結(jié)構(gòu),其中表面覆蓋的非導(dǎo)電大分子鏈聚乙烯吡咯烷酮(PVP)與ZnIn2S4結(jié)合并影響O2吸附過(guò)程。
作者以ZnIn2S4納米片為模型系統(tǒng),將聚乙烯吡咯烷酮(PVP)覆蓋在其表面上來(lái)構(gòu)建表面改性結(jié)構(gòu)。其中,作為一種非導(dǎo)電聚合物,PVP覆蓋的表面可以抑制從ZnIn2S4納米片到O2的電子轉(zhuǎn)移過(guò)程。為了進(jìn)行理論模擬,作者建立了PVP覆蓋的ZnIn2S4模型和理想的ZnIn2S4納米片進(jìn)行比較。
對(duì)于理想的ZnIn2S4結(jié)構(gòu),O2在In和Zn位點(diǎn)的吸附能為-0.883和-0.138 eV,其中通過(guò)Bader分析分別有0.143和0.057個(gè)電子轉(zhuǎn)移到O2。考慮到注入的電子可以改變O2的軌道簡(jiǎn)并性,作者推斷O2主要化學(xué)吸附在In位點(diǎn)而不是Zn位點(diǎn)上。
在ZnIn2S4納米片上添加PVP后,PVP中的羰基氧穩(wěn)定占據(jù)并飽和In位點(diǎn),吸附能為-4.188 eV。此外,由于空間位阻,O2傾向于通過(guò)范德華相互作用在PVP鏈和ZnIn2S4表面之間進(jìn)行物理吸附,吸附能為-0.220 eV。
因此,PVP覆蓋的表面可以有效地防止O2和ZnIn2S4之間的化學(xué)吸附和電子轉(zhuǎn)移。大量光生且壽命長(zhǎng)的物種將其能量轉(zhuǎn)移到物理吸收的O2上,從而有效地生成1O2,而后者可以將硫化物氧化成相應(yīng)的亞砜。對(duì)于不同硫化物的硫化氧化,表面改性帶來(lái)了轉(zhuǎn)化效率提高3-9倍和高達(dá)98%的選擇性。該研究為促進(jìn)與1O2生成相關(guān)的光催化反應(yīng)提供了一種可行的方法。
Surface modification of ZnIn2S4 layers to realise energy transfer-mediated photocatalysis. Natl. Sci. Rev., 2022, DOI: 10.1093/nsr/nwac026.
https://doi.org/10.1093/nsr/nwac026.


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