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鄭聯(lián)喜Adv. Sci.:構(gòu)建高性能Z-型光催化劑
構(gòu)建具有強氧化還原能力、有效電荷分離和大反應表面的光催化系統(tǒng)具有重要的科學和實際意義。在此,阿聯(lián)酋哈利法科技大學鄭聯(lián)喜(通訊作者)等人報道了一種邊緣連接的2D/2D Z-型系統(tǒng),該系統(tǒng)結(jié)合了小面結(jié)和界面異質(zhì)結(jié),以實現(xiàn)有效的長程電荷分離和大的反應性表面暴露。

通過Au促進的光沉積方法在薄TiO2納米片的邊緣位置選擇性生長2D層狀MoS2納米片制備了該異質(zhì)結(jié)。由于晶面結(jié)和界面異質(zhì)結(jié)的協(xié)同耦合確保了有效的電荷分離,以及層狀MoS2和高度暴露的TiO2晶面(001)分別提供了大量的、物理分離的反應位點,人工Z-型異質(zhì)結(jié)在光降解試驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的光催化性能。
雖然注入兩個半導體之間的Au NCs 僅充當介質(zhì)以促進光生電子空穴在異質(zhì)界面處的快速遷移,以確保有效的Z-型電荷轉(zhuǎn)移,而且還充當熱電子注入源以提高光催化性能,這種光催化劑系統(tǒng)對于具有多種未知污染物的光降解應用極為有利。
此外,作者還利用原位輻照X射線光電子能譜和光降解測試,全面研究了異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的Z型電荷流動方向以及電子和空穴的作用。該工作為設計高性能Z-型光催化系統(tǒng)提供了新的見解。
Coupling Long-Range Facet Junction and Interfacial Heterojunction via Edge-Selective Deposition for High-Performance Z-Scheme Photocatalyst. Adv. Sci., 2022, DOI: 10.1002/advs.202200346.
https://doi.org/10.1002/advs.202200346.


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