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Chem. Eur. J. :通過氰基修飾?橋提高三嗪-咔唑基TADF分子的熒光量子產(chǎn)率

大連理工大學(xué)劉迪課題組報(bào)道了一種通過在p橋引入氰基提高分子熒光量子產(chǎn)率(PLQY)并促進(jìn)反系間竄越 (RISC) 過程的策略。與p橋引入甲基的分子相比,ΔEST減小且PLQY增加,顯著提高了電致發(fā)光器件的效率。


第三代熱活化延遲熒光(thermally-activated delayed fluorescence,TADF)材料兼具激子利用率高和無貴金屬的特點(diǎn),TADF 材料的 S1 和 T1 之間的能極差很小,在環(huán)境熱量的作用下,T1 態(tài)激子可以通過RISC 到達(dá) S1 態(tài),再由 S態(tài)輻射躍遷發(fā)光,其理論內(nèi)量子效率也可達(dá)到100%,并且不含貴金屬,不僅極大地提高了發(fā)光效率,還可以大大降低器件的成本,是目前 OLED 發(fā)光材料的熱點(diǎn)研究對(duì)象。


高效的TADF分子需要較高的反系間竄越常數(shù)(kRISC)和較高的PLQY。傳統(tǒng)的分子設(shè)計(jì)策略中通過設(shè)計(jì)高度扭曲的 D-A 或 D-p-A 分子結(jié)構(gòu)來促進(jìn)最高占據(jù)分子軌道 (HOMO) 和最低未占據(jù)分子軌道 (LUMO) 的空間分離來獲得較小的 ΔEST;而提高PLQY需要HOMO 和 LUMO充分的重疊。因此權(quán)衡兩者的關(guān)系是TADF材料分子設(shè)計(jì)的一個(gè)挑戰(zhàn)。







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為解決這一問題,劉迪課題組在連接給體和受體的p橋上引入氰基基團(tuán),設(shè)計(jì)并合成了新分子TrzBuCz-CN。與引入甲基的參比分子TrzBuCz-Me相比,氰基的引入不僅提高了PLQY,而且還降低了ΔEST。這兩個(gè)因素是形成高效TADF分子的關(guān)鍵因素。因?yàn)槿彪娮覥N基團(tuán)降低了S1態(tài)能量,但對(duì)T1態(tài)能量影響較小,故減小了ΔEST(0.21 eV)(在摻雜薄膜中);氰基基團(tuán)的強(qiáng)吸電子基團(tuán)增強(qiáng)了分子內(nèi)電荷轉(zhuǎn)移程度,提高了kRISC (TrzBuCz Me 為 6.8×104 s-1 ,而 TrzBuCz Me 為 1.2×103 s-1 )。同時(shí),由于氰基基團(tuán)與甲基相比體積較小,導(dǎo)致給受體之間扭曲程度變小, HOMO-LUMO 重疊增加,故輻射躍遷速率常數(shù)(kr)顯著增大,最終PLQY陡增至94.0%,而從甲基取代分子則僅有41%。


得益于較快的RISC過程和較高的PLQY,TrzBuCz-CN基天藍(lán)光OLED的最大電流效率 (CE)、功率效率 (PE) 和 EQE分別為 31.0 cdA-1 、26.3 lmW-1 和 13.7%,均明顯高于參比分子TrzBuCzMe。本工作針對(duì)TICT型TADF材料很難平衡 ΔEST 和kr之間關(guān)系的問題,通過CN基修飾 p 橋同時(shí)加速RISC過程和輻射躍遷過程,為實(shí)現(xiàn)高效天藍(lán)光OLED提供了可行的設(shè)計(jì)策略。

文信息

Cyano Decoration of π-Bridge to Boost Photoluminescence and Electroluminescence Quantum Yields of Triazine/Carbazole Based Blue TADF Emitter

Huiting Li, Huicai Ren, Jiahui Wang, Prof Di Liu, Prof Jiuyan Li


Chemistry – A European Journal

DOI: 10.1002/chem.202303169




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