引言
可持續(xù)、高性能儲(chǔ)能系統(tǒng)的需求日益增長(zhǎng),推動(dòng)了對(duì)多價(jià)離子電池的研究。其中,可充電鎂電池(RMB)因其高體積容量和較低枝晶形成傾向,成為鋰離子電池(LIB)的重要替代選項(xiàng),兼具安全性與經(jīng)濟(jì)性。然而,鎂離子高電荷密度和緩慢的固相擴(kuò)散過(guò)程限制了傳統(tǒng)插層機(jī)制的應(yīng)用。為此,結(jié)合鎂負(fù)極優(yōu)勢(shì)與鋰離子快速傳輸特性的鎂鋰混合離子電池(MLHB)受到廣泛關(guān)注。二硒化釩(VSe2)作為金屬性過(guò)渡金屬硫族化合物(TMDC),理論比容量高(257 mAh g?1),導(dǎo)電性可比石墨烯,層間距大(0.61 nm),且硒的低電負(fù)性有助于減弱與Mg2+的庫(kù)侖相互作用,增強(qiáng)離子插層動(dòng)力學(xué)。盡管如此,VSe2在實(shí)際應(yīng)用中仍面臨嵌脫循環(huán)中嚴(yán)重的機(jī)械退化問(wèn)題,導(dǎo)致容量衰減。目前的改進(jìn)策略主要包括:構(gòu)建VSe2–碳復(fù)合納米結(jié)構(gòu)以?xún)?yōu)化離子傳輸和緩解應(yīng)力,以及通過(guò)涂層包覆提升機(jī)械穩(wěn)定性。但這些方法存在納米顆粒團(tuán)聚、涂層力學(xué)-導(dǎo)電平衡難以兼顧等問(wèn)題。
與聚脲等絕緣但彈性的聚合物以及聚吡咯(PPy)和聚苯胺(PANI)等導(dǎo)電但機(jī)械性能較差的聚合物不同,PEDOT獨(dú)特的集成了電子導(dǎo)電性和機(jī)械適應(yīng)性。它的特性也優(yōu)于剛性無(wú)機(jī)涂層,如Al2O3和TiO2,這些涂層在反復(fù)體積變化下往往會(huì)破裂。PEDOT的這種協(xié)同特性可賦予電極長(zhǎng)期的電化學(xué)耐久性。
綜上,亟需一種可擴(kuò)展的策略來(lái)實(shí)現(xiàn)具有定制納米結(jié)構(gòu)和強(qiáng)大界面保護(hù)的 VSe2正極。
02
成果展示
近期,武漢大學(xué)劉勝、李照東教授等人提出了一種VSe2正極納米結(jié)構(gòu)。通過(guò)大氣壓化學(xué)氣相沉積(APCVD)在碳納米管薄膜(CNTf)集流體上直接生長(zhǎng)了垂直取向的VSe2納米片森林。這種結(jié)構(gòu)可確保優(yōu)異的電子傳輸和機(jī)械穩(wěn)健性。同時(shí),研究者通過(guò)分子層沉積(MLD)技術(shù)實(shí)現(xiàn)了分子級(jí)精確的界面操縱,在VSe2正極表面構(gòu)筑了超共形聚(3,4-乙二氧噻吩)(PEDOT)納米涂層,顯著增強(qiáng)了正極的機(jī)械韌性,從而緩釋了放電時(shí)的應(yīng)力集中,抑制了機(jī)械退化。此外,密度泛函理論(DFT)計(jì)算和實(shí)驗(yàn)表明,得益于Li+的嵌入,VSe2中Mg2+/Li+的協(xié)同作用得以實(shí)現(xiàn),增強(qiáng)了容量并加速了客體離子擴(kuò)散。因此,優(yōu)選的VSe2@PEDOT-10的正極實(shí)現(xiàn)了出色的電化學(xué)性能,在2000 mA g?1時(shí)實(shí)現(xiàn)了129 mAh g?1的比容量,在1000 mA g?1下,3000次循環(huán)后保留了107.3 mAh g?1,表現(xiàn)出卓越的循環(huán)穩(wěn)定性。這項(xiàng)工作為解決層狀TMDC電極的電化學(xué)-機(jī)械失穩(wěn)問(wèn)題提供了關(guān)鍵見(jiàn)解,并有望推動(dòng)下一代儲(chǔ)能系統(tǒng)的高性能、穩(wěn)定和可擴(kuò)展的TMDC電極開(kāi)發(fā)。
相關(guān)研究成果以“Molecular-level interface engineering of VSe2 self-supporting architectures enables durable Mg2+/Li+ co-intercalation”為題發(fā)表在期刊Journal of Energy Chemistry上。

03
圖文導(dǎo)讀
圖1展示了具有超共形PEDOT涂層(約5 nm厚)的VSe2自支撐電極。通過(guò)APCVD法在CNTf上成功生長(zhǎng)出致密且與基底緊密結(jié)合的VSe2納米片森林。CNTf作為生長(zhǎng)基底和集流體,具有高導(dǎo)電性、柔韌性和耐高溫硒化特性,還為VSe2的生長(zhǎng)提供了豐富的成核位點(diǎn),形成自支撐三維納米結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步采用MLD技術(shù)在VSe2表面實(shí)現(xiàn)了超共形PEDOT納米涂層(約5 nm厚),該涂層在保持VSe2原有六邊形特征和高結(jié)晶度的前提下,有效增強(qiáng)了結(jié)構(gòu)的完整性并為電極表面提供了穩(wěn)定保護(hù)。得益于MLD過(guò)程中Cl?的摻雜作用,PEDOT以高導(dǎo)電性的醌型構(gòu)型為主。同時(shí)VSe2與PEDOT之間存在強(qiáng)電子耦合,有助于增強(qiáng)界面電荷傳輸。

圖1. VSe2電極和VSe2@PEDOT電極的表征: (a) VSe2@PEDOT電極制備工藝示意圖。 (b) 裸VSe2納米片的SEM圖像。(c) 單個(gè)裸VSe2納米片的局部放大SEM圖。 (d) VSe2@PEDOT-10納米片的SEM圖像。(e) 單個(gè)VSe2@PEDOT-10納米片的局部放大SEM圖。 (f) VSe2@PEDOT-10納米片及其(g) 表面PEDOT涂層的局部放大TEM圖。(h) HRTEM圖。(i) VSe2@PEDOT-10納米片的TEM圖像及其相應(yīng)的V、Se、C、O、S元素EDS映射。裸VSe2和VSe2@PEDOT-10電極的(j) XRD圖譜,(k) 拉曼光譜。
基于原子力顯微鏡的峰值力定量納米力學(xué)模式(PFQNM-AFM),有限元模擬以及原位光學(xué)顯微鏡監(jiān)測(cè)系統(tǒng)地研究了PEDOT涂層的機(jī)械保護(hù)作用。PFQNM-AFM測(cè)試表明,PEDOT涂層表現(xiàn)出顯著粘彈性行為,探針縮回時(shí)出現(xiàn)明顯弛豫。這種顯著增強(qiáng)的界面粘附力可以有效錨定VSe2納米片,防止碎化脫落?;诨瘜W(xué)-力學(xué)耦合的有限元模擬表明,在放電過(guò)程中,離子嵌入引發(fā)體積膨脹和應(yīng)力集中。無(wú)涂層的VSe2表面應(yīng)力極大,而PEDOT涂層將最大應(yīng)力轉(zhuǎn)移至VSe2/PEDOT界面,自身承擔(dān)較低應(yīng)力,實(shí)現(xiàn)了應(yīng)力重新分布與緩釋。涂層還顯著降低了體積應(yīng)變,并在充放電過(guò)程中適應(yīng)納米片的體積變化,保持緊密結(jié)合,避免如Al2O3等剛性涂層易發(fā)生的斷裂與剝落問(wèn)題。通過(guò)構(gòu)建單個(gè)納米片原位光學(xué)顯微觀測(cè)電池,進(jìn)一步在實(shí)時(shí)循環(huán)中驗(yàn)證了涂層的保護(hù)作用。結(jié)果表明,這種粘彈性的PEDOT涂層通過(guò)緩釋離子嵌入引起的應(yīng)力和應(yīng)變,可維持電極結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,從而有利于延長(zhǎng)電極材料的循環(huán)壽命。

圖2. VSe2@PEDOT力學(xué)性能的測(cè)試和模擬。(a) 原子力顯微鏡的峰值力定量納米力學(xué)模式示意圖。(b) 裸VSe2和VSe2@PEDOT的力-位移曲線。(c) 有/無(wú)PEDOT涂層的VSe2納米片表面粘附力對(duì)比。有/無(wú)PEDOT涂層的VSe2納米片在50%放電狀態(tài)下的 (d) 應(yīng)力場(chǎng),(f) 體積應(yīng)變場(chǎng)以及 (h) 相對(duì)位移分布。沿納米片表面和體相水平線的 (e) 應(yīng)力分布,(g) 體積應(yīng)變分布以及 (i) 相對(duì)位移分布。(j) 單個(gè)納米片電極的原位光學(xué)成像電池配置圖。(k) 裸VSe2和 (l) VSe2@PEDOT納米片處于原始狀態(tài)、完全放電狀態(tài)和完全充電狀態(tài)的光學(xué)圖像。
涂層和未涂層的VSe2正極的電化學(xué)性能展示在了圖3中??紤]到機(jī)械保護(hù)與離子導(dǎo)率之間的平衡,通過(guò)優(yōu)化MLD循環(huán)次數(shù),確定了5 nm為PEDOT最佳涂層厚度(VSe2@PEDOT-10)。該電極在200 mA g?1下循環(huán)200次后容量保持率較裸電極提升26.2%,在500 mA g?1循環(huán)500次后進(jìn)一步提升至33.6%。VSe2@PEDOT-10具有優(yōu)異的倍率能力,即使在高電流密度下(2000 mA g?1),仍實(shí)現(xiàn)了129 mAh g?1的容量,且極化顯著減小。VSe2@PEDOT-10電極在1000 mA g?1下循環(huán)3000次后容量保持在107.3 mAh g?1,庫(kù)侖效率近100%,性能優(yōu)于大多數(shù)已報(bào)道的MLHB正極材料。即使進(jìn)一步提高負(fù)載至5 mg cm?2,其循環(huán)穩(wěn)定性仍顯著優(yōu)于裸電極,因此得益于優(yōu)異的機(jī)械穩(wěn)健性,VSe2@PEDOT-10正極表現(xiàn)出增強(qiáng)的電化學(xué)性能。

圖3. VSe2電極和VSe2@PEDOT電極的電化學(xué)性能。(a) 裸VSe2電極和不同MLD-PEDOT循環(huán)的VSe2電極在200 mA g?1下的短循環(huán)性能。(b) VSe2@PEDOT-10和 (c) 裸VSe2電極的第1、10、20、50、100、150和200個(gè)循環(huán)的充放電曲線。(d) 裸VSe2和VSe2@PEDOT-10電極的倍率性能。(e) 不同電流密度下VSe2@PEDOT-10的充放電曲線。(f) 本工作與其他報(bào)道的MLHB正極材料的電化學(xué)性能對(duì)比圖。(g) 裸VSe2和VSe2@PEDOT-10電極在1000 mA g?1電流密度下的長(zhǎng)循環(huán)性能,最初的3個(gè)循環(huán)在50 mA g?1下激活。
一系列非原位表征系統(tǒng)地評(píng)估了VSe2@PEDOT-10電極的化學(xué)-機(jī)械穩(wěn)定性,如圖4所示。循環(huán)后SEM結(jié)果表明,未涂層的VSe2在500次循環(huán)后開(kāi)始出現(xiàn)大量裂紋與分層,而VSe2@PEDOT-10在整個(gè)循環(huán)過(guò)程中保持結(jié)構(gòu)完整,機(jī)械損傷顯著減輕。XRD分析進(jìn)一步顯示,相比裸電極,歷經(jīng)不同程度循環(huán)的VSe2@PEDOT-10電極在充電狀態(tài)下衍射峰更接近標(biāo)準(zhǔn)位置,表明其層間結(jié)構(gòu)恢復(fù)能力更強(qiáng),客體離子殘留更少。PEDOT涂層有效維持了VSe2的晶格穩(wěn)定性。通過(guò)電化學(xué)阻抗譜(EIS)評(píng)估了PEDOT層對(duì)電極電荷傳輸過(guò)程的影響。盡管涂層在循環(huán)初期會(huì)略微增加界面電荷轉(zhuǎn)移阻抗,但經(jīng)過(guò)500次循環(huán)后,未涂層電極中頻區(qū)出現(xiàn)新的SEI阻抗半圓,電荷轉(zhuǎn)移電阻和擴(kuò)散阻抗顯著增大,意味著結(jié)構(gòu)退化明顯。而VSe2@PEDOT-10電極的阻抗變化較小,表明PEDOT涂層通過(guò)抑制納米片開(kāi)裂與分層,維持了穩(wěn)定的離子傳輸通道和電接觸。因此,PEDOT涂層顯著提升了VSe2@PEDOT-10電極的電化學(xué)-機(jī)械穩(wěn)定性。

圖4. 循環(huán)電極的機(jī)械演化表征。(a、c、e) 裸VSe2和 (b、d、f) VSe2@PEDOT-10電極分別在500、1000和2000次循環(huán)后的SEM圖像。(g) 裸VSe2和VSe2@PEDOT-10電極在500、1000和2000次循環(huán)后完全充電狀態(tài)下的XRD圖譜。裸VSe2和VSe2@PEDOT-10電極在(h) 第5個(gè)循環(huán)和 (i) 500個(gè)循環(huán)后的EIS譜圖。(j) PEDOT涂層在長(zhǎng)期循環(huán)下對(duì)VSe2納米片的保護(hù)效果示意圖。
對(duì)電極的雙離子存儲(chǔ)機(jī)制的闡明可提供關(guān)于離子動(dòng)力學(xué)、電極-電解質(zhì)相互作用以及循環(huán)過(guò)程中結(jié)構(gòu)變化的重要見(jiàn)解。CV曲線顯示了兩對(duì)主要的可逆氧化還原峰,表明Mg2+/Li+在VSe2中的嵌入/脫出反應(yīng)分兩步進(jìn)行,且PEDOT涂層未改變反應(yīng)機(jī)制。DFT計(jì)算揭示,PEDOT/VSe2異質(zhì)界面處存在電荷再分布,形成內(nèi)建電場(chǎng),促進(jìn)界面電荷傳輸,并提高對(duì)Mg2+/Li+的吸附能力。原位XRD與HRTEM證實(shí)客體離子存儲(chǔ)遵循拓?fù)錂C(jī)制,而非轉(zhuǎn)化反應(yīng)。在放充電過(guò)程中VSe2層間距發(fā)生可逆膨脹與收縮。然而,Mg2+與Li+的可逆性存在顯著差異。XPS與ICP-MS結(jié)果表明,Li+嵌入/脫出可逆性高,而Mg2+因電荷密度高、極化作用強(qiáng),在循環(huán)中易引起結(jié)構(gòu)塌陷,從而被捕獲于層間形成“死鎂”,導(dǎo)致容量持續(xù)衰減。第100次循環(huán)后,Mg2+的脫出效率僅為31.9%,遠(yuǎn)低于Li+的76.2%。盡管不可逆Mg2+可起到支撐層間距的積極作用,但其積累仍會(huì)占據(jù)活性位點(diǎn)并消耗電解液中的Mg2+,限制循環(huán)穩(wěn)定性。PEDOT涂層通過(guò)維持結(jié)構(gòu)完整性,保持穩(wěn)定流暢的離子傳輸空間,有效緩解了Mg2+不可逆嵌入帶來(lái)的負(fù)面效應(yīng)。

圖5. 雙離子儲(chǔ)存機(jī)制的原位和非原位表征。(a) 在0.1 mV s?1的掃描速率下,VSe2@PEDOT-10電極前三個(gè)周期的CV曲線。 (b) 第一個(gè)循環(huán)中VSe2@PEDOT-10電極的原位XRD圖譜。(c, d) 完全放電狀態(tài)和 (e, f) 完全充電狀態(tài)下VSe2@PEDOT-10的HRTEM圖像和SAED圖。(g) 不同狀態(tài)下VSe2@PEDOT-10電極的Li 1s(Se 3d)和Mg 1s的XPS光譜。
正如DFT計(jì)算所揭示的那樣,Mg2+與Li+在VSe2中的共嵌入表現(xiàn)出顯著的協(xié)同促進(jìn)效應(yīng),改善了電極的客體離子存儲(chǔ)行為。Li+的嵌入增強(qiáng)了VSe2在費(fèi)米能級(jí)附近的電子態(tài)密度,提高了材料的電子電導(dǎo)率,從而加速了后續(xù)客體離子嵌入反應(yīng)中的電子轉(zhuǎn)移。電荷密度差結(jié)果表明,Mg2+與VSe2層間存在的強(qiáng)庫(kù)侖相互作用是其擴(kuò)散緩慢的重要原因。而當(dāng)Li+共存時(shí),可削弱Mg2+與層間的靜電作用,促進(jìn)Mg2+的固態(tài)擴(kuò)散。遷移能壘計(jì)算進(jìn)一步證實(shí)了這一點(diǎn),Li+使Mg2+在VSe2中的遷移能壘從0.54 eV降至0.47 eV,顯著改善了Mg2+的傳輸動(dòng)力學(xué)。這一理論也得到了實(shí)驗(yàn)結(jié)果證實(shí)。因此,理論與實(shí)驗(yàn)一致揭示了Li+/Mg2+的協(xié)同增強(qiáng)機(jī)制:通過(guò)提升電導(dǎo)、弱化靜電束縛及降低擴(kuò)散勢(shì)壘,共同增強(qiáng)了VSe2對(duì)客體離子的存儲(chǔ)能力。

圖6. Mg/Li原子與VSe2相互作用的理論研究。(a) VSe2、(b) Li-VSe2 和 (c) Mg和Li共插層VSe2 (Mg/Li-VSe2) 的總DOS以及V 3d和Se 4p的相應(yīng)PDOS圖。 (d) Li-VSe2,(e) Mg-VSe2和 (f) Mg/Li-VSe2的晶體結(jié)構(gòu)和電荷密度差。(g) VSe2中Li、Mg和鋰化VSe2中的Mg原子的擴(kuò)散能壘及 (h) 相應(yīng)的擴(kuò)散路徑。
04
總結(jié)
本研究提出了一種具有超保形MLD-PEDOT納米涂層的VSe2自支撐正極,在MLHB中展現(xiàn)出卓越的電化學(xué)-機(jī)械穩(wěn)定性。研究者們通過(guò)詳細(xì)分析,揭示了VSe2中的關(guān)鍵機(jī)械失效機(jī)制,并闡明了PEDOT納米層對(duì)VSe2納米片機(jī)械降解的抑制作用。通過(guò)將PEDOT涂層優(yōu)化到精確的5 nm厚度,可顯著增強(qiáng)電極的機(jī)械韌性和電化學(xué)性能。VSe2@PEDOT-10正極在2000 mA g?1時(shí)可實(shí)現(xiàn)129 mAh g?1的高比容量,在1000 mA g?1下循環(huán)3000次后仍保持107.3 mAh g?1,表現(xiàn)出優(yōu)異的倍率性能和循環(huán)穩(wěn)定性。此外,綜合表征和理論分析突出了Li+和Mg2+插層的協(xié)同行為,其中Li+促進(jìn)了Mg2+的插層并增強(qiáng)了VSe2的存儲(chǔ)能力。這項(xiàng)工作為解決層狀TMDC電極的機(jī)械不穩(wěn)定性問(wèn)題提供了關(guān)鍵見(jiàn)解,并有望推動(dòng)下一代儲(chǔ)能系統(tǒng)的高性能、穩(wěn)定和可擴(kuò)展的TMDC電極開(kāi)發(fā)。
文章信息
Molecular-level interface engineering of VSe2 self-supporting architectures enables durable Mg2+/Li+ co-intercalation
Jiulong Li, Lirong Wang, Youquan Jiang, Yuqi Ren, Bingqian Xu, Yao Cai, Shucao Lu, Chaoyu Chen, Haonan Song, Jialiang He, Zheng Zhang, Sheng Liu*, Zhaodong Li*
Journal of Energy Chemistry
DOI: 10.1016/j.jechem.2025.09.019













