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磺酰系保護基
  • 概要

磺酰系基團除了做保護基團以外也可有其他用途,它在酸性條件和氧化條件下是強的保護基團。

經(jīng)常被使用的磺酰系基團有甲磺?;⒈郊谆酋;⑾趸郊谆酋;⑷谆酋;?。



醇用磺酰基保護后,它的離去能增加,容易發(fā)生置換、消去反應(yīng)。因此,脂肪醇用磺?;Wo的例子不多見,另一方面,可利用保護基的電子吸引性,能使富電子的酚類物質(zhì)難被氧化,起到保護的目的。

同樣,磺?;鶎Π返谋Wo也很有效,經(jīng)保護后的胺的親核性和堿性都被吸電子性的磺?;魅?。特別是伯胺的保護,磺酰胺的N-H的質(zhì)子酸性變的很強,這樣一來,光延反應(yīng)等烷基化條件下容易烷基化,可用于合成仲胺。作為該目的使用的磺?;J褂帽萒s(對甲苯磺?;└菀纂x去的Ns(硝基苯甲磺?;﹣肀Wo胺(福山胺合成)。

  • 基本文獻


  • 反應(yīng)機理

Ms基和Ts基保護時的機理不同,為了高效的生成活性中間體,使用各種性質(zhì)不同的堿基。即,一般Ms保護時用三乙胺、Ts保護時用吡啶(或DMAP-三乙胺)。



另一方面,脫保護比較困難,溫和條件下脫保護時,用Mg/MeOH等經(jīng)單電子還原來實現(xiàn)。



Ns基通過硫醇鹽的親核加成而脫去,在合成化學(xué)中價值很高(參見福山胺合成)。


  • 反應(yīng)實例

三氟甲磺?;话闶褂萌谆撬狒═f2O),一般不適用于烯醇的保護。使用McMurry’s試劑和Comin’s試劑作為代替使用。

用Mg-MeOH對Ts基脫保護




  • 實驗步驟

  • 實驗技巧

  • 參考文獻

[1] Sridhar, M.; Ashokkumar, B.; Narendar, R. Tetrahedron Lett. 199839, 2847. doi:10.1016/S0040-4039(98)00314-1



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